Inverz geometriájú impulzuslézeres vékonyréteg-építéssel 
növesztett szén-nitrid-rétegek
Égerházi László
IV. fizikus
Témavezetők: Dr. Geretovszky Zsolt egyetemi adjunktus
	Dr. Szörényi Tamás tudományos főmunkatárs
SZTE TTK Optikai és Kvantumelektronikai Tanszék

	Az impulzuslézerrel keltett plazmából történő vékonyrétegépítés (Pulsed Laser Deposition, PLD) bevált laboratóriumi technika különleges, más módszerekkel nem, vagy csak körülményesen előállítható filmek készítésére. A hagyományos elrendezésben a vékonyréteg a targettel szembe néző hordozó (szubsztrát) felületén kondenzálódik. Jóllehet, a reaktív atmoszférában végzett PLD során általános tapasztalat, hogy interferenciamintázat alakul ki a target felszínén, amely a rétegépülés csalhatatlan jele, mi vizsgáltuk meg először, milyen filmek épülnek akkor, ha a szubsztrátot nem a targettel szemközt, hanem a target síkjában helyezzük el. [1, 2] Ezt az új geometriát ― a hagyományos konfigurációktól való megkülönbözetés érdekében ― inverz geometriájú impulzuslézeres vékonyréteg-építésnek, az angol szakzsargonban általunk bevezetett betűszóval IPLD-nek neveztük el. 
	Dolgozatomban a 0.5–50 Pa nyomástartományban növesztett szén-nitrid IPLD-filmek vastagságeloszlásának, felületi morfológiájának és optikai tulajdonságainak szisztematikus vizsgálatára támaszkodva jellemzem az előállított filmeket. Képet alkotok a filmépülés folyamatáról, melynek ismerete mind a modellezés, mind a gyakorlati alkalmazás szempontjából elsődleges fontosságú. A növekedésisebesség-eloszlások matematikai analízise alapján megfogalmazom az IPLD-filmépülés ún. kétmechanizmus-modelljét, amely a rétegek szimmetriatengelyei mentén kémiai és anyagszerkezeti változásokat prognosztizál. A morfológiai és optikai tulajdonságoknak a modellben megjósolt viselkedését összevetem a kísérleti eredményekkel: ez az összehasonlítás lehetővé teszi a modell ellenőrzését és esetleges finomítását, valamint megalapozza ezen újfajta vékonyrétegépítési technika gyakorlati alkalmazásait.

[1]	L. Égerházi, Zs. Geretovszky and T. Szörényi: Thickness distribution of carbon nitride films grown by inverse pulsed laser deposition, Thin Solid Films, in press (2004)

[2]	L. Égerházi, Zs. Geretovszky and T. Szörényi: Carbon nitride films by inverse pulsed laser deposition, Junior EUROMAT 2004, 6-9. September 2004, Lausanne, P77/I05